Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) ist ein allgemeiner Begriff, der eine Vielzahl von Methoden beschreibt, um dünne Filme auf unterschiedliche Oberflächen abzuscheiden. Diese Beschichtungsmethode umfasst rein physikalische Prozesse, wie Verdampfung des schichtbildenden Materials im Vakuum oder Sputtern, bei dem das Ausgangsmaterial durch Ionenbeschuss zerstäubt und in die Gasphase überführt wird.
iX-factory ist in der Lage sowohl Metalle als auch dielektrische Materialien aufzubringen.
Die Palette der Anwendungen ist sehr weit, u.a.:
- Widerstände, z B. PT 100
- Thermistoren
- Elektroden für EC- und amperometrische Sensoren
- Kapazitive Elektroden / Sensoren
- Spulen
- Thermopile Sensoren und Module
- Spiegel
- Magnetische Sensoren
- u.s.w
Möglichkeiten / Ressourcen:
- Cr, Au, Ni, Al, Pt, Pd, Ti, Ta, Cu, SiO2, ITO, CuNi, ...
- Dicken typischerweise bis zu 2000 nm (abhängig von der Spannung und Adhäsion)
- Sputtering und Bedampfung
- Mehrschichtig
- Annealing (Rekristallisation, Spannungsreduktion & Diffusion von Legierungen)
- Passivierung
