Chemische Gasphasenabscheidung (Chemical Vapor Deposition - CVD) ist ein Verfahren um reine, leistungsstarke und feste Materialien zu erstellen.
iX-factory bietet folgende Schichten an:
- PECVD Silizium-OxyNitrid (einstellbarer Brechungsindex, einstellbare Schichtspannung)
- LPCVD Silizium-reiche-Nitride
- LPCVD Siliziumnitride
- LPCVD Poly-Siliziumabscheidung
- Thermische Oxidation (nass und trocken)
- TEOS-Verfahren
LPCVD Silizium-reiche-Nitride
LPCVD Silizium-reiches-Nitrid ist ein sehr vielfaltig anwendbares Material mit geringem Stress in der abgeschiedenen Schicht.
Anwendungen:
- Masken für KOH und DRIE ätzen
- Membranen (10 nm ... 1 µm)
- Chemische Schutzschichten (Passivierung)
- Elektrische und thermische Isolation
- Mechanische Schutzschichten
- Ultra high contrast Wellenleiter
Beispiel:
Mikrotechnische thermische Strömungssensoren
